La incorporación de materiales nanoestructurados como la zeolita tipo LTA en las obleas de silicio, abre una puerta muy interesante para el uso de estos materiales dentro de las tecnologías de microfabricación basadas en silicio. En este trabajo, se estudió la deposición y el entrecruzamiento de la capa de zeolita tipo LTA libre de defectos en obleas de silicio de 3 pulgadas con una capa de SiO2 sometida a pretratamiento. La principal desventaja asociada con la síntesis de la capa de zeolita es la formación de grietas y la obtención de una capa uniforme. Al modificar los soportes con boehmita, se observó una mejora sustancial en términos de continuidad de capa y crecimiento de cristales en comparación con los recubrimientos preparados en polímero catiónico, poli (cloruro de dialildimetilamonio). Se sintetizó una capa de zeolita de tipo LTA entre un rango de 350 y 1300 nm mediante un método hidrotermal ex situ, a 363 K durante 12 h. Se usó hidróxido de tetrametilamonio (TMAOH) como molde y se usaron isopropóxido de aluminio y sílice coloidal como fuentes de Al y Si, respectivamente.